Номер документа в системі: | 270209 |
Автор: | Шепелев С. Н. |
Назва документа: | Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления |
Видавництво: | ЦНИИ "Электроника" |
Місто видання: | Москва |
Рік видання: | 1987 |
УДК | 621.3.049.77.002:621.793.3 |
Мова документу | Російська |
Шифр документу | 621.3 ОИ |
Кількість сторінок | 52 с. |