ADOMAITIS R. A.

A Reduced-Basis Discretization Method for Chemical Vapor Deposition Reactor Simulation


В наявності 1 з 1 примірників.


Номер документа в системі:53221
Автор:ADOMAITIS R. A.
Назва документа:A Reduced-Basis Discretization Method for Chemical Vapor Deposition Reactor Simulation
Мова документуАнглійська
Кількість сторінок159-175 p.
Повернутися до переліку бібліотечних фондів